任何轮廓或组件都可以标记为遮罩。标记为遮罩的元素从其图层元素顺序中位于它们之前的几何体中减去。标志位于路径或组件本身,而不是图层上,因此单个图层——母版、背景或辅助——可以自由混合遮罩和非遮罩元素。
遮罩是一种设计工具。字体格式——TrueType、OpenType、CFF2、UFO——没有遮罩标志的表示,因此在导出字体时,遮罩总是被展平为普通几何体。在字形编辑器内、在 FontCreator 项目文件中以及在 .glyphs 格式中,标志被保留并以非破坏性方式应用,因此原始遮罩和非遮罩几何体按照您创作的方式被保留。
从选定轮廓或组件的右键上下文菜单切换遮罩标志。标记为遮罩的元素在字形编辑器中使用独特的轮廓绘制,因此其角色一目了然。
减法遵循元素顺序。遮罩路径仅从列表中出现在它之前的非遮罩元素中减去。使用置于顶层或置于底层重新排序元素会更改从哪些路径中减去。
连续标记为遮罩的元素作为单个组减去。这就是复合遮罩——例如由外路径和内路径组成的环——产生一个孔而不是两个单独的切口的原因。将复合遮罩的各部分在元素列表中彼此相邻放置,并将两者都标记为遮罩。
整个组件可以标记为遮罩,在这种情况下,引用字形的分解形状从先前的几何体中减去。引用字形内部的每路径遮罩标志在组件分解时也会保留——手动或在导出时自动——因此可以使用内部遮罩路径设计一次字形,然后作为组件在其他字形中重用,而不会丢失减法。
遮罩可能导致图层不兼容。在导出时遮罩展平后,如果遮罩在母版之间的形状不同,母版可能会以不同的点数结束——这与重叠移除相同的警告。这在设计可变字体时特别重要:在发布之前检查母版兼容性。
带遮罩分解将遮罩减法永久烘焙到活动图层的创作几何体中。应用遮罩,然后从幸存元素中移除遮罩标志——留下不再依赖减法的普通轮廓几何体。
字体导出器会自动应用减法,因此仅当创作几何体本身应反映减法后形状时才需要此命令——例如,为了简化字形以便移交给不理解遮罩标志的工具。
可从主菜单中的字形 → 分解 → 遮罩以及字形编辑器中遮罩切换附近的右键上下文菜单获得。当活动图层包含至少一个标记为遮罩的元素时启用。
英文原文:https://www.high-logic.com/fontcreator/manual16/fc_mask.html